額定(ding)流量:100m³/h(50Hz)
極限壓力(li)≤1x10-3mbr(abs)
電壓:320-440(50Hz)
功率:0.4Kw
口逕:VG5...
額定(ding)流量(liang):300m³/h(50Hz)
極(ji)限壓力≤1x10-3mbr(abs)
電壓:320-440(50Hz)
功率:0.75Kw
口(kou)逕:VG...
額(e)定(ding)流量:500m³/h(50Hz)
極(ji)限壓力(li)≤1x10-3mbr(abs)
電壓:320-440(50Hz)
功率:2.2Kw
口逕:VG6...
額(e)定流量:1100m³/h(50Hz)
極限壓(ya)力≤1x10-3mbr(abs)
電壓:320-440(50Hz)
功率:3.7Kw
口逕(jing):VG...
可應(ying)用于:蒸髮鍍膜、磁(ci)控濺射(she)、捲繞鍍膜、離(li)子鍍(du)膜、光學鍍膜等;單晶鑪、多晶鑪、真空熱處理鑪、燒結鑪、...
可應用于:蒸髮鍍膜(mo)、磁控濺射、捲繞鍍膜(mo)、離子鍍膜、光學鍍膜等;單晶鑪、多晶鑪、真空熱處理鑪(lu)、燒結鑪、...
可應用于:蒸髮鍍膜、磁控濺(jian)射、捲繞鍍膜、離子鍍膜、光學(xue)鍍膜等;單晶鑪、多晶鑪、真空熱處(chu)理鑪、燒結鑪、...
可(ke)應(ying)用于:蒸髮鍍膜、磁控濺射、捲繞鍍膜、離子鍍膜、光學鍍膜等;單晶鑪、多晶(jing)鑪、真空(kong)熱(re)處理鑪、燒結鑪、...